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2020年半导体光刻胶市场达到16亿美元,EUV增长率超过50%

2020年半导体光刻胶市场达到16亿美元,EUV增长率超过50%

CINNO Research产业资讯,由于2019年半导体市场的低迷,光刻胶市场也呈现了负增长;虽然2020年有新冠肺炎的影响,但预计会再次增长。

根据日媒News.Mynavi报道,据美国电子材料市场调查公司TECHCET调查显示,受到半导体市场低迷的影响,2019光刻胶、辅助材料的全球市场出现了负增长;2020年虽然有新冠肺炎的影响,但预测会转为正增长。

据预测,主要的G-Line/I-Line、DUV光刻胶的2020年的市场规模继2018年之后,会再次超过16亿美元(约人民币112亿元)。另一方面,EUV 光刻胶的市场规模在2020年超过1,000万美元(约人民币7,000万元),到2023年年平均增长率预计达到50%以上,但是从当前的EUV光蚀刻胶的整体市场来看,EUV光刻胶的占比不足1%。

TECHCET的分析师Ed Korczynski先生表示说,“长年以来,极紫外光刻技术(EUV Lithography)的导入一直被延误,如今终于要被7nm工艺以下的IC生产采用了。继TSMC、Samsung Electronics之后,Intel计划在2023年把EUV运用到最尖端的逻辑半导体生产中。SK Hynix也已经开始讨论把EUV运用到尖端DRAM的生产中”。未来,随着EUV需求的增长,而且有迹象表明EUV技术也将被用于量产,EUV特殊蚀刻胶供应商Inperia在2020年2月份收到了来自光刻胶厂家、使用EUV的半导体厂家等的总额3,100万美元(约人民币2.17亿元)的投资。

据说,荷兰的EUV曝光设备公司——ASML在2019年销售了203台DUV Stepper(深紫外光曝光机),26台EUV Lithography设备(极紫外光曝光设备)。ASML保留2020年30台EUV曝光设备“NXE:3400系列”的产能,2021年开始计划每年出货40-45台。
2020年半导体光刻胶市场达到16亿美元,EUV增长率超过50%
按照曝光光源来区分,半导体光刻胶(Photo-resist)市场规模。(单位:百万美元)(图片出自:TECHCET)